各種電子材料の研究開発を精力的に進め、エレクトロニクスの発展に貢献します。

いつの時代においても産業の要となるエレクトロニクス分野。
今日まで様々な特性を有する新材料の開発が行われてきました。
そして、21世紀の情報産業を支える技術として、さらなる技術革新が期待されています。
まず、次世代の夢の技術として注目される超伝導技術は、電気抵抗が限りなく小さいためエネルギー消費が極めて少なく、リニア新幹線にも応用が期待されています。
今後の産業や社会構造を大きく変革する可能性を秘めたこの技術は、ようやく実用段階の入り口にあり、より応用的な高温超伝導物質の研究開発が求められています。
さらに携帯電話・大型テレビのディスプレイとして期待される有機EL材料は、薄く、かつ曲げる事ができるという特徴をもっており、今後も新たなEL材料の研究開発に注目が寄せられます。
それに伴い、生産技術面での、材料の積層化技術、連続生産方式、印刷技術の開発が必須となっていきます。
一方、液晶材料は緻密な画像を作り出す事ができるのが特徴で、PDPは明るく、鮮やかな画像を作り出す事ができます。
このフラットパネルディスプレイの世界市場は7兆円ともいわれる巨大市場となり、今後ますます技術革新が進んでいきます。
その中で液晶、パネルコート材料、有機EL材料の研究開発が重要なポイントに位置づけられます。
また、LEDは白熱電球と比べて寿命が長く、蛍光灯や電球に替わる光源として期待されています。
しかし耐熱性、高価格といった課題を抱えており、実用化に向けた研究開発が進められています。
各種半導体デバイスの微細加工技術において注目されているMEMSは、今やナノメートルオーダーにまで達しており、今日のエレクトロニクス産業を支えています。
このMEMSプロセス技術において、エッチング技術、フォトリソグラフィ技術の研究開発が積極的に進められています。
テクノプロ・R&D社は、対象となる材料も金属・セラミックスのみならず、ポリマーや有機物質等、様々なカテゴリーにおいてハイブリッド化を視野に入れた研究開発を支援して参ります。
各種電子材料の研究開発を精力的に進め、エレクトロニクスの発展に大いに貢献して参ります。

支援分野の例

  • 有機EL(低分子、高分子発光素子、有機TFT形成)、液晶(低分子液晶、高分子液晶)
  • フィルム(位相差フィルム、カラーフィルター、拡散フィルム、反射フィルム)、次世代PDP、超電導物質、有機導電性物質、層間絶縁材料、LEDの研究開発支援
  • フォトリソグラフィ等のMEMS技術開発支援
  • PVD、CVD等の半導体プロセス開発支援